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InP EEL工艺流程
InP EEL工艺流程
01. Epitaxy
02. Epitaxial growth & Formation of grating
03. Regrowth
04. Mask patterning & etching
05. Ridge etching
06. Coating and etching
07. Electrode evaporation
刻蚀设备解决方案
Model:NE-550EX
Model:uGmni 200E
镀膜设备解决方案
Model:ei-501z
- 2寸-8寸兼容
- 搭配多种蒸发源
- 金属电极高品质镀膜
- 兼容Lift-off工艺
- 高均匀性，高重复性
Model:CS-200z
- 2寸-8寸兼容
- 支持多靶材同时溅射
- 最多配置4个4寸靶
- 常规金属成膜速率可达3-8A/s
- 成膜致密性高
- 高均匀性，高重复性
Model:Esz-R
- 量产用蒸发台
- 8寸-12寸兼容
- 大量产，Esz-R:4inch108pcs分布≤±5%
- 高产量高效率，Esz-X: 6inch 52pcs、8inch 24pcs
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